ASML, přední výrobce polovodičového vybavení, dosáhl průlomu, který umožní výrobcům čipů dosáhnout nevídané hustoty tranzistorů. Nová technologie zásadně změní průmysl a jako první ji bude využívat Intel.
Nenechte si ujít důležité novinky! Přidejte si Finex.cz jako preferovaný zdroj na Google.
ASML dosáhla průlomu se svým novým masivním High NA EUV litografických systémem, neboť se ho podařilo spustit, jak potvrdil ve středu nizozemský výrobce polovodičového vybavení. Jedná se o milník, protože to znamená, že nový nástroj společnosti funguje, i když zatím ne na plný výkon.
Šéfka technologického vývoje společnosti Intel, Ann Kelleherová, se o tomto pokroku poprvé zmínila během úterní přednášky na litografické konferenci SPIE v San Jose a ASML tuto informaci potvrdila.
High NA EUV litografie je dalším krokem v neustálé snaze o zmenšování čipů. Využívá extrémního ultrafialového záření (EUV) k tisku drobných prvků na křemíkové destičky.
Nová platforma nabízí výrobcům čipů kritický rozměr 8 nm. To znamená, že mohou tisknout tranzistory 1,7krát menší – a dosáhnout tak 2,9krát vyšší hustoty tranzistorů – než s využitím předchozích systémů ASML.
Litografické systémy používají soustředěné světelné paprsky, které pomáhají vytvářet drobné obvody počítačových čipů.
Očekává se, že nástroje High NA EUV společnosti ASML, které jsou velké jako dvoupatrový autobus a každý stojí více než 350 milionů dolarů, pomohou umožnit vznik nové generace menších a rychlejších čipů.
První existující nástroj High NA se nachází v laboratoři společnosti ASML v nizozemském Veldhovenu a druhý se montuje v závodě společnosti Intel poblíž Hillsboro v Oregonu.
Očekává se, že vyspělí výrobci čipů včetně společností TSMC a Samsung tento nástroj v příštích pěti letech zavedou, přičemž Intel uvedl, že hodlá tento nástroj používat ve výrobě pro svou generaci čipů 14A.
Díky Finex Premium můžete zhodnocovat své peníze s větší jistotou, přehledem a podporou reálných investorů, kteří každý den spravují svá vlastní portfolia. Žádná teorie, ale reálná praxe.
Přidejte se a nenechte si utéct žádnou příležitost.
Publicista a aktivní investor s více než desetiletou praxí zaměřující se na hodnotové investování a akciové trhy. Vystudoval České vysoké učení technické v Praze (ČVUT).
Ve své investiční strategii kombinuje aktivní i pasivní přístup a zaměřuje se především na kvalitní růstové společnosti a value investice. Ve svých článcích se věnuje investičním strategiím, psychologii investování a analýze jednotlivých akcií.
94 %
90 %
